硅晶圆是一种半导体材料,在经过照相制版,研磨,抛光,切片等一系列工序,将多晶硅融解拉出单晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圆。这种硅晶圆在人工智能、物联网和生物医学等领域都是多有应用。近年来,我国越来越重视硅晶圆的生产,带动了其上下游产业的发展,超纯水设备的应用也在其列。
硅晶圆生产与超纯水设备是什么关系?在硅晶圆研磨,抛光,切片这些工序中少不了其身影,超纯水设备主要是为期送去高品质清洗超纯水,方便其清洗表面的金属物质。那么这样的超纯水设备是如何制出高品质超纯水的?
该设备采用预处理+反渗透+EDI+抛光混床的组合形式来制备超纯水。该设备具有高效低能、运行成本低,水资源利用率高、体积较小、维修量小,运行的时间长等优点。设备中应用的EDI模块在运行过程中不需要添加任何化学品,不仅减少了化学品运输问题,同时降低了系统运行费用。EDI模块不会产生酸碱废液,因此不需要酸碱中和处理。EDI进水为二级反渗透产水,水质较好。即使经EDI系统脱盐后,EDI浓水水质仍优于一级反渗透产水,可回流至一级反渗透产水箱。可连续工作,无需更换树脂。
并且该超纯水设备满足了各种工业用水的不同需求,应用范围非常广泛,可适用于电子、半导体、线路板、集成电路、机密机械的生产和清洗,还可以应用在食品饮料行业中和饮用水的制取。设备能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,其占地非常小,可以为企业节省很多空间,在符合硅晶圆生产用水水质标准的同时可以使水资源的利用率达到95%~99%,有效提升了水资源利用率。
随着半导体行业不断的发展,我国对于硅晶圆需求只多不少,侧面带动了超纯水设备的市场需求,未来发展形势也是一片大好!
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